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        MLL-C900

        MLL-C900無掩膜直寫光刻設備是自主研發生產的一款精 巧型光刻產品,廣泛應用多種微納光刻加工領域的研究與 生產,光刻最小線寬600nm,套刻對準精度500 nm器件 直寫光刻功能。適用于小批量、多品種的科研院所使用
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         1.產品描述

         

              MLL-C900無掩膜直寫光刻設備是自主研發生產的一款精巧型光刻產品,廣泛應用多種微納光刻加工領域的研究與生產,光刻最小線寬600nm,套刻對準精度500nm器件 直寫光刻功能。適用于小批量、多品種的科研院所使用

         

        2.產品特點

         

           •  器件直寫光刻功能

         

           •  3D結構曝光功能

         

           •  掩膜版曝光功能

         

           •  背面對準功能

         

           •  可視化定點對準曝光功能

         

           •  快速、精細兩種曝光模式

         

           •  多種數據輸入格式(GDSⅡ/DXF/CIF/Gerber/BMP/TIFF)

         

           •  基于Windows系統,用戶界面方便操作

         

        3.技術規格

         

        設備型號 MLL-C900
        最小線寬[nm] 600
        最高產能[mm²/min] 250
        套刻精度[3σ,nm] 500
        最大基板尺寸[inch] 8(可拓展)
        線寬均勻性[3σ,nm] 150

          

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